Los orígenes de este proyecto cooperativo se encuentran en las reuniones mantenidas entre noviembre de 2008 y enero de 2009 en una Mesa de Energías Renovables promovida por la Agencia Navarra de Innovación y Tecnología (Anain, que es una empresa pública) y coordinada por el Centro de Innovación Tecnológica de la Asociación de la Industria de Navarra (AIN). Según fuentes del proyecto Valer, los participantes en dicha mesa decidieron formar un consorcio para el desarrollo de un proyecto que permitiera experimentar con diferentes tecnologías de origen fotovoltaico; evaluar las dificultades de adaptación estética y funcional de las instalaciones; y realizar un análisis comparativo exhaustivo y riguroso de los rendimientos obtenidos por las instalaciones en cada una de las tres zonas climáticas de Navarra.
Los protagonistas
El proyecto ha sido subvencionado por el Departamento de Innovación, Empresa y Empleo del gobierno de Navarra dentro de su línea de ayudas a proyectos de investigación, desarrollo e innovación. Las empresas y organizaciones socias del proyecto son MB Solar, Fluitecnik, Tejados Aoiz, el Colegio Ingenieros Técnicos Industriales de Navarra, el Centro Nacional de Energías Renovables (Cener) y la Fundación para la Formación en Energías Renovables. Las tecnologías fotovoltaicas que se analizan en este proyecto son tres tipos diferentes de lámina delgada (silicio amorfo rígido, silicio amorfo flexible y CIGS) y una de silicio policristalino, que actúa como referencia. Según los promotores del proyecto Valer, las ventajas de las tecnologías de lámina delgada son "su menor coste de fabricación, el alto rendimiento para radiación difusa y su menor coeficiente de temperatura que las células de silicio cristalino" (a partir de determinada temperatura, la productividad de las células FV desciende). En cuanto a sus inconvenientes, "es una tecnología novedosa, con un menor rendimiento que el silicio cristalino, que requiere mayor superficie para conseguir la misma potencia y, en los casos de silicio amorfo, la degradación es más rápida que en el silicio cristalino".
Las características técnicas
El proyecto cooperativo de innovación Valer ha seleccionado tres localidades navarras pertenecientes a zonas climáticas distintas: Noain (zona climática II), Azagra (zona climática III) y Arbizu (zona climática I). En Noain, la instalación se ha realizado en la escuela de educación infantil; en Azagra, en el frontón; y en Arbizu, en el polideportivo municipal. Según fuentes de Valer, las conclusiones del proyecto "se harán públicas en breve, tras el correspondiente análisis de los datos monitorizados". Las características técnicas del proyecto son las siguientes: instalación por localidad de 7,35 kW de potencia, constituida por tecnologías de silicio policristalino, silicio amorfo flexible, silicio amorfo rígido y CIGS (cobre, indio, galio y selenio). En total, han sido instalados nueve módulos Fluitecnik FTS220P de 210 Wp (policristalinos); veintiocho módulos FlexCell FLX-MO68R de 68 Wp (silicio amorfo flexible/ a-Si thin film); trece módulos Yohkon YEC200 de 135 Wp (CIGS, en la foto); y cuarenta y dos módulos Unisolar Unisol PV-43 de 43 Wp (silicio amorfo rígido/ a-Si en tándem). Los sistemas solares cuentan con inversores Schüco SGI-1500T de 1,65kW y un sistema de monitorización compuesto por dos registradores (Sunalyzer y Datataker85).
Las definiciones, según el Colegio de Ingenieros Técnicos Industriales de Navarra
1. Silicio Policristalino
Fabricados a partir de silicio en forma cristalina, estos paneles destacan por integrar una tecnología que es considerada ya madura, que aporta un mayor rendimiento que las tecnologías de lámina delgada y una mejor relación entre la potencia del módulo y su superficie. Sus inconvenientes principales son el coeficiente de temperatura, mayor que en las tecnologías de lámina delgada y ser un módulo con estructura de soporte rígida.
2. Lámina delgada
Entre sus ventajas, destaca que tienen menores costes de fabricación y alto rendimiento para radiación difusa. Además, estos paneles son adecuados para cubiertas no orientadas al sur y tienen un menor coeficiente de temperatura que las células de silicio policristalino. Por otra parte, requieren de un menor consumo de material en su fabricación.
3. Silicio amorfo
El espesor de silicio amorfo utilizado en su construcción puede ser menor de 1 μm y sus células pueden fabricarse a una temperatura de deposición relativamente baja, entre doscientos y quinientos grados centígrados, lo que permite el uso de varias de capas de bajo coste.
4. CIGS
Los materiales que emplea son Cobre, Indio, Galio y Selenio (iniciales que dan nombre a esta tecnología). Es uno de los paneles de lámina delgada con mayor potencial debido a su alta eficiencia y bajo coste. Su principal ventaja es la reducción de costes en materiales, aunque su método de fabricación es complicado y con necesidad de inversión importante. Otro problema que se plantea con esta tecnología es la disponibilidad de materiales y la toxicidad de la capa CdS.
